Сводный каталог книг

w10=
Найдено документов в текущей БД: 22
   З84
   К43

    Технологии микроэлектроники. Химическое осаждение из газовой фазы
/ В. Ю. Киреев, А. А. Столяров. - М. : Техносфера, 2006. - 190 с. - (Мир электроники). - Библиогр.: с. 188-190. - ISBN 5-94836-039-3 : 160.00 р.
ГРНТИ
ББК З844.1 + В372.6


Держатели документа:
Институт физики им. Л.В. Киренского СО РАН
Доп.точки доступа:
Столяров, Александр Александрович
Экземпляры всего: 1
ИФ-КФ (1)
Свободны: ИФ-КФ (1)
   Ж
   М 54
Ж6 / М 54-ИХХТ-АБ
Ж6 / М 54-ИВМ-Фонд
Ж6 / М 54-ЦНБ-АБ

    Методы получения и свойства нанообъектов
: учеб. пособие. - М. : Флинта : Наука, 2009. - 163 с. - Библиогр.: с. 157-163. - 1000 экз. - ISBN 978-5-9765-0326-7. - ISBN 978-5-02-034741-0. - ISBN 978-5-9765-0326-7 (Флинта)978-5-02-034741-0 (Наука). - ISBN 978-5-9765-0326-7 . - ISBN 978-5-9765-0326-7 (Флинта). - ISBN 978-5-02-034741-0 (Наука) : 228.00 р., 228.00 р.
ГРНТИ
УДК
ББК Ж6я7 + Ж6я73 + Ж364я73 + Ж6я73 + Ж364я73 + Ж6я73 + Ж364я73


Держатели документа:
Институт физики им. Л.В. Киренского СО РАН
ИВМ СО РАН : 660036, Красноярск, Академгородок, 50, стр.44
Центральная научная библиотека КНЦ СО РАН : 660036, г. Красноярск, Академгородок, 50
Экземпляры всего: 5
ИФ-КФ (2), ИХХТ-АБ (1), ИВМ-Фонд (1), ЦНБ-АБ (1)
Свободны: ИФ-КФ (2), ИХХТ-АБ (1), ИВМ-Фонд (1), ЦНБ-АБ (1)
   К
   Я 57

    Электролитическое осаждение благородных и редких металлов
/ А. М. Ямпольский ; под ред. П. М. Вячеславова. - Изд. 3-е, доп. и перераб., 2-е изд. вышло под загл.: Покрытия благородными металлами. - Л. : Машиностроение, 1971. - 126 с. : ил. - (Библиотечка гальванотехника ; вып. 7). - Библиогр.: с. 122-124 (33 назв.). - 12500 экз. - 0.25 р.
ГРНТИ
ББК К663.234


Держатели документа:
Институт физики им. Л.В. Киренского СО РАН

Доп.точки доступа:
Вячеславов, Петр Михайлович \ред.\
Экземпляры всего: 1
ИФ-КФ (1)
Свободны: ИФ-КФ (1)
   Ж
   P97

    Pulsed laser deposition of thin films: applications-led growth of functional materials
/ ed. by R. Eason. - 2nd ed. - Hoboken : Wiley-Interscience, 2007. - 682 p. : ill. ; 26 cm. - Bibliogr. at the end of the pts. - Index. - ISBN 978-0-471-44709-2 : 6627.00 р.
Перевод заглавия: Импульсно-лазерное осаждение тонких пленок
   Перевод заглавия: Импульсно-лазерное осаждение тонких пленок
ГРНТИ
ББК Ж308 + В371.26


Держатели документа:
Институт физики им. Л.В. Киренского СО РАН

Доп.точки доступа:
Eason, Robert \ed.\
Экземпляры всего: 1
ИФ-КФ (1)
Свободны: ИФ-КФ (1)
   Г1
   П 50
Г11 / П 50-ИХХТ-АБ

    Общая химия
/ Л. Полинг ; илл. худож. Р. Хейуорда ; пер. с англ. В. М. Сахарова ; под ред. проф. Д. А. Франк-Каменецкого. - М. : Мир, 1964. - 584 с. : ил. - Пер. изд. : General shemistry / by Linus Pauling. - San Francisco(Ca), 1958. - 3.46 р.
    Содержание:
Природа и свойства материи
Атомы, молекулы, кристаллы
Электрон и ядро
Элементы, элементарные вещества, соединения
Химические элементы и периодический закон (часть I)
Химические элементы и периодический закон (часть II)
Весовые отношения в химических реакциях
Квантовая теория и строение атома
Ионы, ионная валентность, электролиз
Ковалентность и электронная структура
Окислительно-восстановительные реакции
Химия галогенов
Законы электролиза. Электрохимические процессы
Свойства газов
Вода
Свойства растворов
Сера, селен, теллур
Азот, фосфор, мышьяк, сурьма и висмут
Скорость химических реакций
Химическое равновесие
Кислоты и основания
Произведение растворимости и осаждение
Комплексные ионы
Металлы и сплавы
Хром, марганец и близкие им по свойствам металлы
Железо, кобальт, никель и платиновые металлы
Медь, цинк, галлий, германий и родственные им элементы
Органическая химия
Биохимия
Химия кремния
Термохимия
Окислительно-восстановительные равновесия
Ядерная химия
ГРНТИ
ББК Г1я73 + Г11 + Гя73


Держатели документа:
Институт физики им. Л.В. Киренского СО РАН

Доп.точки доступа:
Хейуорд, Роджер \илл. худож.\; Сахаров, В. М. \пер. с англ.\; Франк-Каменецкий, Д. А. \ред. пер.\; Pauling, Linus
Экземпляры всего: 2
ИФ-КФ (1), ИХХТ-АБ (1)
Свободны: ИФ-КФ (1), ИХХТ-АБ (1)
   В37
   А 59
В372.1 / А 59-ЦНБ-АБ

    Фундаментальные основы анализа нанопленок
: пер. с англ. / Т. Альфорд, Л. Фельдман, Д. Майер ; пер.: А. Н. Образцов, М. А. Долганов ; науч. ред. А. Н. Образцов. - М. : Научный мир, 2012. - 390 с. - (Фундаментальные основы нанотехнологий: лучшие зарубежные учебники). - Библиогр. в конце гл. - Пер. изд. : Fundamentals of nanoscale film analysis / Terry L. Alford, Leonard C. Feldman, James W. Mayer. - 2007. - ISBN 978-5-91522-225-9 : 588.37 р., 588.37 р.
ГРНТИ
УДК
ББК В371.26 + В372.1-6я73

Аннотация: Книга посвящена рассмотрению проблем фундаментальной физики, лежащих в основе методов, используемых для изучения поверхностей и приповерхностных слоев материалов. Появление и развитие таких аналитических методик, основанных на явлениях взаимодействия частиц и излучения с веществом, обусловлено, прежде всего, ростом технологических потребностей. Ионная имплантация, электронные пучки и лазеры используются также и для модификации состава и структуры материалов. Осаждение потоков частиц, получаемых с помощью различных источников, позволяет получать пленочные материалы. Так, эпитаксиальные слои могут быть получены с использованием молекулярных пучков, а также с помощью физического и химического газофазного осаждения. Методики, основанные на изучении взаимодействия с частицами, позволяют, например, обеспечить контролируемые условия окислительных и каталитических реакций. Ключом к успешному использованию данных методик является широкая доступность аналитических технологий, чувствительных к составу и структуре твердых тел на нанометровом масштабе. Книга предназначена для специалистов в области материаловедения и инженеров, интересующихся использованием различных видов спектроскопии и/или спектрометрии. Для людей, занимающихся анализом материалов, которым необходима информация о технике, имеющейся за пределами и лабораторий; и особенно для студентов старших курсов и выпускников, собирающихся использовать это новое поколение аналитических методов в своей научной работе.

Содержание

Держатели документа:
Институт физики им. Л.В. Киренского СО РАН

Доп.точки доступа:
Фельдман, Леонард; Майер, Джеймс; Образцов, А. Н. \пер.\; Долганов, М. А. \пер.\; Образцов, А. Н. \науч. ред.\; Alford, Terry L. ; Feldman, Leonard C. ; Mayer, James W.
Экземпляры всего: 2
ИФ-КФ (1), ЦНБ-АБ (1)
Свободны: ИФ-КФ (1), ЦНБ-АБ (1)
Г46
М 82
Г46 / М 82-ИХХТ-АБ
Г46 / М 82-ИБФ-ООН

    Методы разделения и концентрирования в аналитической химии
/ Л. Н. Москвин, Л. Г. Царицына. - Л. : Химия, Ленингр. отд-ние, 1991. - 255 с. ; 20. - Библиогр.: с. 237-248 (390 назв.). - Предм. указ.: с. 249-253. - 5900 экз. - ISBN 5-7245-0209-7 : 3.10 р., 3.10 р.
    Содержание:
Осаждение
Отгонка
Экстракция
Газовая экстракция
Хроматография
Мембранные методы разделения
Диффузионные методы
Электромембранные методы
Баромембранные методы
Методы внутрифазного разделения
Электромиграционный метод
масс-сепарация и масс-спектрометрия
Фракционирование в потоке под действием поперечного силового поля. ППФ-методы
ГРНТИ
УДК
ББК Г46 + Х2


Держатели документа:
Институт физики им. Л.В. Киренского СО РАН

Доп.точки доступа:
Царицына, Людмила Геннадиевна
Экземпляры всего: 2
ИФ-КФ (1), ИХХТ-АБ (1), ИБФ-ООН
Свободны: ИФ-КФ (1), ИХХТ-АБ (1)
   Г4
   Х 39

    Зонная плавка органических веществ
: пер. с англ. / Е. Херингтон ; пер. А. Г. Аникин. - М. : Мир, 1965. - 260 с. - Пер. изд. : Zone melting of organic compounds / E. F. G. Herington. - Oxford, 1963. - 0.99 р.
    Содержание:
Краткая история зонной плавки и зонной очистки
Фазовые диаграммы
Коэффициент распределения
Уравнения направленной кристаллизации
Уравнения для одного зонного прохода
Уравнения для конечного распределения
Распределение растворенного вещества после любого числа зонных проходов
Основные показатели процесса зонной плавки
Экспериментальная техника
Чистые вещества
Концентрирование веществ
Разделение изотопов
Фракционирование полимеров
Изучение фазовых соотношений при направленной кристаллизации и зонной плавке
Зонное выравнивание
Комплексные методы разделения
Зонное осаждение
Паровая ЗО
Сравнение относительных теоретических эффективностей ЗО, направленной и фракционной кристаллизации
Направленная кристаллизация
Метод фракционной кристаллизации
Фракционная плавка
Выращивание монокристаллов
ГРНТИ
ББК Г473


Держатели документа:
Институт физики им. Л.В. Киренского СО РАН
Доп.точки доступа:
Аникин, А. Г. \пер.\; Herington, E. F. G.
Экземпляры всего: 1
ИФ-КФ (1)
Свободны: ИФ-КФ (1)
   Г5
   В 19

    Химическое осаждение из растворов
/ И. М. Вассерман ; ред.: В. Б. Глушкова, В. А. Кржижановская. - Л. : Химия, Ленингр. отд-ние, 1980. - 208 с. - Библиогр.: с. 201-205. - 3600 экз. - 1.00 р.
    Содержание:
Методы исследования процессов химического осаждения и старения осадков
Образование химических осадков (ХО)
Гетерогенные системы осадок-маточный раствор
Совокупность процессов образования и старения систем осадок-маточный раствор
Структуры и механизмы образования гидроксидов и основных солей металлов
Гетерогенные методы химического осаждения
Гомогенные методы химического осаждения
Образование ХО с заранее заданными физическими свойствами
Образование ХО с заранее заданным химическим составом
Загрязнение ХО
Характеристика параметров процессов химического осаждения из растворов
Автоматическое регулирование непрерывного процесса осаждения по назначению pH среды
Примеры получения ХО в промышленности
Осаждение высокоогнеупорных материалов
ГРНТИ
ББК Г562.1


Держатели документа:
Институт физики им. Л.В. Киренского СО РАН
Доп.точки доступа:
Глушкова, В. Б. \ред.\; Кржижановская, В. А. \ред.\
Экземпляры всего: 1
ИФ-КФ (1)
Свободны: ИФ-КФ (1)
   Г5
   Р 41

    Введение в химическую физику поверхности твердых тел
/ С.М. Репинский ; Отв. ред. А.В. Ржанов; Рос. акад. наук. Сиб. отд-ние. Ин-т физики полупроводников. - Новосибирск : Наука, 1993. - 222 с. : ил., табл. - Указ. элементов и соединений, предм. указ.: с. 218-222. - Библиогр.: с. 215-217. - 480 экз. - ISBN 5-02-030309-7 : 160.00 р.
    Содержание:
Химическая связь и структура поверхности твердых тел
Термодинамика поверхности
Поверхностная диффузия
Адсорбция
Испарение твердых тел
Растворение твердых тел
Процессы окисления
Осаждение из газовой фазы
ГРНТИ
ББК Г58 + Г522


Держатели документа:
Институт физики им. Л.В. Киренского СО РАН
Доп.точки доступа:
Российская академия наук; Сибирское отделение РАН; Институт физики полупроводников Сибирского отделения РАН
Экземпляры всего: 1
ИФ-КФ (1)
Свободны: ИФ-КФ (1)
   В37
   Ф 94
З 856 / Ф 94-ИХХТ-АБ
В379.2 / Ф 94-ЦНБ-АБ

    Фундаментальные основы процессов химического осаждения пленок и структур для наноэлектроники
/ Ф. А. Кузнецов [и др.] ; отв. ред. Т. П. Смирнова ; Рос. акад. наук, Сиб. отд-ние, Ин-т неорган. химии им. А.В. Николаева, Иркут. ин-т орган. химии им. А.Е. Фаворского, Ин-т физики полупроводн. им. А.В. Ржанова СО РАН. - Новосибирск : Изд-во СО РАН, 2013. - 175 с. : ил. - (Интеграционные проекты СО РАН ; вып. 37). - Авт. указ. на с.172. - Библиогр.: с. 156-171. - 330 экз. - ISBN 978-5-7692-1272-7. - ISBN 978-5-7692-0669-6. - ISBN 978-5-7692-1272-7 : 5.00 р., 5 р., 1400.00 р.
    Содержание:
Синтез и характеризация летучих комплексов металлов Ru, Ir, Cu, Ni с органическими лигандами
Новые реагенты для получения пленок карбонитрида кремния
Термодинамическое моделирование процессов осаждения из газовой фазы. Построение CVD-диаграмм
Осаждение металлических пленок Ru, Ir, Cu, Ni методом МО CVD
Разработка процессов получения двух- и трехкомпонентных оксидных пленок из β-дикетонатных комплексов металлов
От кремнийорганических соединений-предшественников к многофункциональным покрытиям из карбонитрида кремния
CVD-синтез пленок и покрытий на основе фаз системы D-C-N
Исследование химического состава пленок Si(B)C[[d]]x[[/d]]N[[d]]y[[/d]] методами РФЭС- и Оже-спектроскопии
ГРНТИ
УДК
ББК В379.212.6 + З843.3 + З 856-06 + З 856-06
Рубрики:
Тонкие пленки полупроводниковые--Получение--Свойства физико-химические
Кл.слова (ненормированные):
Полупроводники -- Химическое осаждение -- Органические лиганды -- Прекурсоры -- Летучие компоненты -- Карбонитриды -- ЯМР-спектроскопия -- Термодинамическое моделирование -- Газовая фаза -- CVD-диаграммы -- Металлические пленки -- Двухкомпонентные оксидные пленки -- Трехкомпонентные оксидные пленки -- РФЭС-спектроскопия -- Оже-спектроскопия -- Полупроводниковая наноэлектроника -- Тонкие пленки -- Диэлектрическая проницаемость

Аннотация: В монографии представлены результаты развития процессов химического осаждения из газовой фазы металлических и диэлектрических пленок с использованием нетрадиционных летучих исходных соединений, а именно, комплексных соединений металлов и кремнийор-ганических соединений, синтезируемых в ИНХ СО РАН и ИрИХ СО РАН. Рассматриваются результаты исследования физико-химических свойств исходных соединений. Изложены принципы выбора исходных соединений, основанные на исследовании их термодинамических свойств и термодинамическом моделировании МО CVD процессов. Получены и исследованы наиболее важные для современной электроники и наноэлектроники материалы: металлические пленки (Си, Ni, Ru, Ir), диэлектрические пленки с высоким (high-k) и низким (low-k) значением диэлектрической проницаемости. Изучены химический, фазовый состав и структура простых и сложных оксидов на основе НЮ2 (high-k диэлектрики), а также карбонитридов бора, карбонитридов и оксикарбонитридов кремния (low-k диэлектрики). Книга адресуется студентам, аспирантам, инженерам и научным сотрудникам, занимающимся химией твердого тела, микроэлектроникой и технологией материалов электронной техники

Держатели документа:
Институт физики им. Л.В. Киренского СО РАН

Доп.точки доступа:
Кузнецов, Ф. А.; Воронков, Михаил Григорьевич; Борисов, В. О.; Игуменов, И. К.; Смирнова, Т. П. \отв. ред.\; Российская академия наук; Сибирское отделение РАН; Институт неорганической химии им А.В. Николаева Сибирского отделения РАН; Иркутский институт химии им. А.Е. Фаворского Сибирского отделения РАН; Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения РАН
Экземпляры всего: 3
ИФ-КФ (1), ИХХТ-АБ (1), ЦНБ-АБ (1)
Свободны: ИФ-КФ (1), ИХХТ-АБ (1), ЦНБ-АБ (1)
   З84
   Д182

    Применение низкотемпературной плазмы для нанесения тонких пленок
[Текст] : монография / Б.С. Данилин. - Москва : Энергоатомиздат, 1989. - 327 с. : ил., табл. - Библиогр.: с. 316-324. - ISBN 5-283-03939-0 : 3.60 р.
ББК З84

Аннотация: Показана роль тонкопленочной технологии в производстве интегральных схем. Анализируются основные факторы, определяющие процесс ионного распыления. Рассматривается осаждение пленок магнетронным, термоионным,ионнокластерным и электронно=циклотронным методами, а также стимулирование плазмой осаждение пленок из газовой фазы при пониженном давлении. Показаны пути обеспечения вакуумно-технических параметров в установках для осаждения тонких пленок. Рассмотрены перспективы применения плазменных процессов в производстве интегральных схем. Для научных и инженерно-технических работников, использующих в своей практической работе осаждение пленок с помощью низкотемпературной плазмы. Может быть полезна также студентам старших курсов, аспирантам и преподавателям вузов.

Держатели документа:
ИВМ СО РАН : 660036, Красноярск, Академгородок, 50, стр.44
Экземпляры всего: 1
ИВМ-Фонд (1)
Свободны: ИВМ-Фонд (1)
   В37
   Р74

Рост кристаллов
. - Москва : Мир., Вып.2 : Теория роста и методы выращивания кристаллов. - 1981. - 223 с. : ил. - Перевод с английского. - Параллельный титульный лист на английском языке. - Библиогр. в конце глав. - (в пер.) : 2.40 р.
Перевод заглавия: Crystal growth. Theory and Technigues: V.2/ Edit by C.H.L. Coodman
   Перевод заглавия: Crystal growth. Theory and Technigues: V.2/ Edit by C.H.L. Coodman
ГРНТИ
ББК В375.14 + З843.308

Аннотация: Книга посвящена актуальным вопросам технологии кристаллов. рассматриваются такие проблемы, как возникновение напряжений в эпитаксиальных пленках, выращенных из паровой фазы, эпитаксиальное осаждение пленок кремния и влияние на процесс осаждения УФ-излучения. Особое внимание уделяется методу бестигельного получения кристаллов - методу Вернейля.

Держатели документа:
Центральная научная библиотека КНЦ СО РАН : 660036, г. Красноярск, Академгородок, 50

Доп.точки доступа:
Гудман, К. \ред.\; Гиваргизов, Е.И. \ред. пер.\
Экземпляры всего: 1
ЦНБ-ХР (1)
Свободны: ЦНБ-ХР (1)
   К663.05
   П 37

    Электрохимия в материаловедении
[Текст] : монография / В. Плит ; пер.: О. Д. Чаркин, Л. А. Фишгойт, А. А. Митрофанов. - Москва : БИНОМ. Лаборатория знаний, 2014. - 446 с. : ил. ; 25 см. - Перевод с английского . - Библиогр. в конце гл. - Предм. указ.: с. 418-438. - 100 экз. - ISBN 978-5-9963-0387-8 (в пер.) : 736.00 р.
Параллельный титульный лист на английском языке
Перевод заглавия: Electrochemistry in materials science/ Waldfried Plieth
   Перевод заглавия: Electrochemistry in materials science/ Waldfried Plieth
ГРНТИ
УДК
ББК К663.054я73 + Г57я73

Аннотация: В учебном издании, автор которого - известный специалист в области электрохимии и материаловедения из Германии, имеющий большую педагогическую практику, изложены основы электрохимии в объеме, достаточном для решения прикладных задач материаловедения. Даны основные понятия электрохимии (электролитическая диссоциация, электродные потенциалы, двойной электрический слой и др.), базовые представления об атомном и электронном строении твердых тел. Подробно рассмотрены процессы переноса заряда и массопереноса, электроосаждение металлов, полупроводниковые оксидные материалы и проводящие полимеры. Особое внимание уделено явлению коррозии и методам защиты от нее. Кратко обсуждаются композитные материалы, получаемые электрохимическими методами. Книга содержит обширную библиографию, имеется подробный предметный указатель. Для студентов и аспирантов университетов, химических и технических вузов, а также специалистов в области наук о материалах.


Доп.точки доступа:
Чаркин, О. Д. (кандидат химических наук) \пер.\; Фишгойт, Л. А. (кандидат химических наук) \пер.\; Митрофанов, А. А. \пер.\
Экземпляры всего: 1
ЦНБ-АБ (1)
Свободны: ЦНБ-АБ (1)
   З844
   Т 78

Труды ФТИАН   Т.19 : Квантовые компьютеры, микро- и наноэлектроника
[Текст] / Физ.-технол. ин-т; Главный редактор К. А. Валиев. - Москва : Наука, 1991 - . - ISSN 0868-7129. : физика, технология, диагностика и моделирование / Ответственный редактор В. Ф. Лукичев. - 2008. - 247 с. : ил. ; 23 см. - Библиогр. в конце ст. - ISBN 978-5-02-036641-1 : 195.00 р.
Настоящий том Трудов Физико-технологического института РАН посвящается 70-летию со дня рождения действительного члена Российской академии наук Александра Александровича Орликовского
ГРНТИ
ББК З844.1я43 + З86я43
Рубрики:
Микроэлектроника--Технология--Моделирование--Интегральные схемы
   Наноэлектроника--Физика--Технология--Моделирование

   Компьютеры квантовые--Физика--Технология--Моделирование

Кл.слова (ненормированные):
Математическое моделирование -- Субмикронные технологии -- Квантовые наноприборы -- Квантовое поведение нанотранзисторов -- Фотолитография -- Электронная литография -- Травление тонких пленок -- Осаждение тонких пленок -- Тонкие пленки -- Методы квантовой обработки информации -- Квантовая обработка информации -- Квантовая передача информации -- Методы квантовой передачи информации -- Квантовая криптография -- Квантовые модели  -- Структуры с пониженной размерностью -- Спиновые структуры -- Полномасштабный твердотельный квантовый компьютер на ядерных спинах кремния

Аннотация: Сборник посвящен актуальным проблемам математического моделирования субмикронных технологий и квантовых наноприборов. Основное внимание уделено наиболее важным проблемам, таким как фотолитография, травление и осаждение тонких пленок, электронная литография, надежность соединений и корпусов микросхем, квантовое поведение нанотранзисторов. Отдельно рассмотрены квантовые модели структур с пониженной размерностью, спиновых структур, методы квантовой обработки и передачи информации, в частности квантовой криптографии. Обсуждается возможность построения полномасштабного твердотельного квантового компьютера на ядерных спинах кремния. Для специалистов в области микро- и наноэлектроники, аспирантов и студентов старших курсов соответствующих специальностей.

содержание,
http://mypdfbook.ru/526991/trudi-ftian-tom-19-kvantovie-kompyuteri-mikro-i-nanoelektronika-fizika-tehnologiya-diagnostika-i-modelirovanie.pdf


Доп.точки доступа:
Валиев, Камиль Ахметович (Академик) \ред.\; Лукичев, Владимир Федорович (Доктор физико-матических наук) \ред.\; Российская академия наук; Физико-технологический институт РАН( Москва)
Экземпляры всего: 1
ЦНБ-АБ (1)
Свободны: ЦНБ-АБ (1)
   Г562
   Х 46

    Химическое осаждение металлов из водных растворов
: научное издание / В. В. Свиридов [и др.] ; ред. В. В. Свиридов. - Минск : Университетское, 1987. - 270 с. : ил. - Библиогр.: с. 243-268. - 2.90 р.
ГРНТИ
УДК
ББК Г562.138 + К663.086
Рубрики:
Растворы



Доп.точки доступа:
Свиридов, В.В.; Воробьева, Т.Н.; Гаевская, Т.В.; Степанова, Л.И.; Свиридов, В.В. \ред.\
Экземпляры всего: 1
ИХХТ-АБ (1)
Свободны: ИХХТ-АБ (1)
   Г57
   Б 14

    Основы электрохимии
/ В. С. Багоцкий. - М. : Химия, 1988. - 400 с. : ил. - Библиогр.: с. 399-400. - ISBN 5-7245-0051-5 : 1.80 р.
ГРНТИ
УДК
ББК Г57 + Л35

Аннотация: Изложены теоретические основы электрохимии: основные понятия и определения на базе единообразной терминологии с учетом рекомендаций ИЮПАК, электрохимия растворов и расплавов, электродные потенциалы, строение межфазных границ, термодинамика и кинетика электрохимических процессов, а также прикладные аспекты электрохимии - химические источники тока и электрохимические реакторы, коррозия и осаждение металлов, окислительно-восстановительные реакции и электрохимические методы анализа.

Экземпляры всего: 3
ИХХТ-АБ (3)
Свободны: ИХХТ-АБ (3)
К66
О-72

    Осаждение пленок и покрытий разложением металлоорганических соединений
: монография / Б. Г. Грибов [и др.] ; отв. ред. Г. А. Разуваев ; Акад. наук СССР, Ин-т химии (г. Горький). - М. : Наука, 1981. - 322 с. : ил. - Библиогр. в конце глав. - 3.50 р.
Авт. указ. на обороте тит. л.
ГРНТИ
ББК К66

Аннотация: Монография отражает последние достижения одной из наиболее интересных областей применения металлоорганических соединений - получение неорганических пленок и покрытий термическим разложением МОС. Рассмотрены теоретические основы процесса осаждения покрытий, особенности их структуры и морфологии, приводится технология получения пленок.


Доп.точки доступа:
Грибов, Б.Г.; Домрачев, Г.А.; Жук, Б.В.; Каверин, Б.С.; Козыркин, Б.И.; Мельников, В.В.; Суворова, О.Н.; Разуваев, Г.А. \отв. ред.\; Акад. наук СССР. Ин-т химии (г. Горький)
Экземпляры всего: 1
ИХХТ-АБ (1)
Свободны: ИХХТ-АБ (1)
   К663
   Э 45

    Электролитическое осаждение железа
: монография / Ю. Н. Петров [и др.] ; ред. Г. Н. Зайдан ; Акад. наук Молдавской ССР, Ин-т прикладной физики. - Кишинев : Штиинца, 1990. - 195 с. : ил. - Библиогр.: с. 171-194. - ISBN 5-376-00775-8 : 2.60 р.
ГРНТИ
ББК К663.223.054



Доп.точки доступа:
Петров, Ю.Н.; Гурьянов, Г.В.; Бобанова, Ж.И.; Сидельникова, С.П.; Андреева, Л.Н.; Зайдан, Г.Н. \ред.\; Акад. наук Молдавской ССР. Ин-т прикладной физики
Экземпляры всего: 1
ИХХТ-АБ (1)
Свободны: ИХХТ-АБ (1)
   Е912
   M61

    Methods of plasma protein fractionation
[Text] : библиография / edited by J. M. Curling. - London ; New York : Academic Press, 1980. - xiii, 326 p : il + 24 cm. - Bibliogr. at the end of the chapters. - Subject ind.: p. 323-326. - ISBN 012199550X : 40.32 р.
Перевод заглавия: Методы фракционирования белков плазмы
   Перевод заглавия: Методы фракционирования белков плазмы
ББК Е912



Доп.точки доступа:
Curling, (John M.)
Экземпляры всего: 1
ИБФ-КФ (1)
Свободны: ИБФ-КФ (1)