| УДК |
Аннотация: Сборник посвящен физическим основам новых технологических процессов структурирования полупроводниковых, металлических и сверхпроводящих слоев для сверхбольших интегральных схем: ионно-плазменных и лазерно-стимулированных процессов травления и нанесения с локальностью до долей микрона. Значительное внимание уделяется процессам субмикронной литографии: лазерной (эксимерной) и электронной. Описаны примеры реализации в виде отдельных элементов с субмикронными размерами. Рассматривается проблема моделирования упомянутых выше процессов и приборов, реализованных с их помощью. Для специалистов в области микроэлектроники.
Держатели документа:
ИВМ СО РАН : 660036, Красноярск, Академгородок, 50, стр.44
Экземпляры всего: 1
ИВМ-Фонд (1)
Свободны: ИВМ-Фонд (1)