Содержание:
Физико-химические основы новых методов получения кристаллов, пленок и многослойных структур, в том числе: сухой вакуумной литографии субмикронного разрешения, молекулярной эпитаксии, ионно-лучевых и плазмохимических
Состояние и перспективы использования различных классов материалов и предъявляемые к ним требования
Структура и химическое состояние веществ на границах раздела слоев многослойных структур
Новые методы изучения физико-химических параметров материалов электронной техники: формулировка критериев и разработка методов оценки функциональной пригодности материала, учет роли дефектной структуры. Успехи в автоматизации методов комплексного изучения свойств материалов
| ГРНТИ |
Рубрики:
Электроника--Материалы--Сборники
Электроника--Материалы--Сборники
Держатели документа:
Институт физики им. Л.В. Киренского СО РАН
Доп.точки доступа:
Академия наук СССР; Сибирское отделение АН СССР; Научный совет по проблеме "Физико-химические основы полупроводникового материаловедения" АН СССР. Сибирская секция материаловедения полупроводников и твердотельных структур; Институт неорганической химии Сибирского отделения АН СССР; Красноярский институт цветных металлов
Экземпляры всего: 2
ИФ-КФ (1), ИФ-РСФ (1)
Свободны: ИФ-КФ (1), ИФ-РСФ (1)