/ Г. Ф. Ивановский, В. И. Петров. - М. : Радио и связь, 1986. - 232 с. : ил. - Библиогр.: с. 226-231. - 1.20 р.
ББК К557
Аннотация: Рассматриваются физико-химические основы и принципы применения ионно-плазменной обработки материалов в вакууме с целью очистки их поверхностей, травления на поверхности структур субмикронного размера, а также получения пленочных покрытий различных материалов. Анализируются основные закономерности и теоретические представления о процессах ионно-плазменной обработки, рассматриваются характеристики оборудования для ее осуществления, возможности автоматизации процессов.
Доп.точки доступа: Петров, В.И.
Экземпляры всего: 1
ИХХТ-АБ (1)
Свободны: ИХХТ-АБ (1)