[Текст] : монография / СО РАН, Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова, Институт неорганической химии им. А.В. Николаева СО РАН, Институт катализа им. Г.К.Борескова, Институт автоматики и электрометрии , Институт геологии и минералогии им. В.С. Соболева ; отв. ред.: А. Л. Асеев, В. А. Гиценко. - Новосибирск : Издательство Сибирского отделения Российской академии наук, 2011. - 157, [1] с. + 25 см. - (Интеграционные проекты СО РАН = SB RAS integrated projects : серия основана в 2003 г. / Фомин Ю. И., главный редактор серии ; вып. 31). - Библиогр.в конце гл. -
ISBN 978-5-7692-1183-6 (Вып.31) (в пер.). -
ISBN 978-5-7692-0669-6 : 5.00 р.
Авт.указаны на обороте тит.л. Парал.тит.л.англ.
ББК З 843 + В37
Аннотация: Монография посвящена синтезу, атомной, электронной структуре, механизмам переноса заряда и применению диэлектриков с высокой диэлектрической проницаемостью в кремниевых приборах флэш-памяти. Рассматриваются наиболее важные и перспективные диэлектрики Al2O3, HfO2, Ta2O5, ZrO2, TiO2, твердые растворы (HfO2)x(Al2O3)1 – x. Анализируется также электронная структура трех традиционных ключевых диэлектриков в кремниевых приборах: оксида SiO2, оксинитрида SiOxNy и нитрида Si3N4 кремния. Книга адресуется студентам, аспирантам, инженерам и научным сотрудникам, занимающимся физикой твердого тела и микроэлектроникой
Доп.точки доступа: Асеев, А.Л. (академик) \отв. ред.\; Гиценко, В.А. \отв. ред.\; Российская академия наук . Сибирское отделение; Институт физики полупроводников им. А.В. РжановаИнститут неорганической химии им. А.В. Николаева СО РАН; Институт катализа им. Г.К.Борескова; Институт автоматики и электрометрии ; Институт геологии и минералогии им. В.С. Соболева
Экземпляры всего: 1
ЦНБ-АБ (1)
Свободны: ЦНБ-АБ (1)