Главная Упрощенный режим Описание
Авторизация
Фамилия
Пароль
 

Базы данных


Труды сотрудников ИЯФ (пополняемая)- результаты поиска

Вид поиска

Область поиска
 Найдено в других БД:Препринты (1)Электронный каталог книг и продолжающихся изданий (2)База ученого секретаря (1)
Формат представления найденных документов:
полныйинформационныйкраткий
Отсортировать найденные документы по:
авторузаглавиюгоду изданиятипу документа
Поисковый запрос: (<.>A=Коронкевич, В. П.$<.>)
Общее количество найденных документов : 3
Показаны документы с 1 по 3
1.


   
    Использование рентгеновской литографии для создания дифракционных оптических элементов с глубоким фазовым профилем / В. П. Коронкевич, Г. Н. Кулипанов, О. А. Макаров [и др.] // Национальная конференция по применению Рентгеновского, Синхротронного излучений, Нейтронов и Электронов для исследования материалов (РСНЭ'97), Москва-Дубна, 25-29 мая 1997 г. : [тезисы докладов]. - Москва, 1997. - С. 570

Перейти к внешнему ресурсу: Полный текст

Доп.точки доступа:
Коронкевич, В.П.; Кулипанов, Г.Н.; Макаров, О.А.; Мезенцева, Л.А.; Назьмов, В.П.; Пиндюрин, В.Ф.; Полещук, А.Г.; Черкашин, В.В.; Чурин, Е.Г.; Национальная конференция по применению Рентгеновского, Синхротронного излучений, Нейтронов и Электронов для исследований материалов (25 - 29 мая 1997 ; Дубна / Москва)

Найти похожие

2.


   
    Исследование шероховатости поверхности микроструктур в глубокой рентгенолитографии / В. П. Назьмов, В. П. Коронкевич, Л. А. Мезенцева [и др.] // Вторая национальная конференция по применению рентгеновского, синхротронного излучений, нейтронов и электронов для исследования материалов (РСНЭ-99), Москва, 23-27 мая 1999 г. : тезисы докладов. - Москва : ИК РАН, 1999. - С. 423


Доп.точки доступа:
Назьмов, В.П.; Коронкевич, В.П.; Мезенцева, Л.А.; Пиндюрин, В.Ф.; Полещук, А.Г.; Яковлева, Е.Н.; Национальная конференция по применению рентгеновского, синхротронного излучений, нейтронов и электронов для исследования материалов (2 ; 23-27 мая 1999 ; Москва)

Найти похожие

3.


   
    Разработка химико-гальванических процессов для литографического производства трехмерных микроструктур [] / А. Ю. Абрамский [и др.] // Гальванотехника и обработка поверхности. - 2010. - T. 18, № 2. - С. 11-18

Перейти к внешнему ресурсу: РИНЦ

Доп.точки доступа:
Абрамский, А.Ю.; Гольденберг, Б.Г.; Зелинский, А.Г.; Кондратьев, В.И.; Корольков, В.П.; Коронкевич, В.П.; Маслий, А.И.; Медведев, А.Ж.

Найти похожие

 
© Международная Ассоциация пользователей и разработчиков электронных библиотек и новых информационных технологий
(Ассоциация ЭБНИТ)