1. 
|
(Свободных экземпляров нет)
Вид документа : Монографическая серия
Шифр издания : В37/Ф 94
Автор(ы) : Кузнецов Ф. А., Воронков, Михаил Григорьевич, Борисов В. О., Игуменов И. К.
Заглавие : Фундаментальные основы процессов химического осаждения пленок и структур для наноэлектроники
Выходные данные : Новосибирск: Изд-во СО РАН, 2013
Колич.характеристики :175 с.:
ил.
Коллективы :
Российская академия наук, Сибирское отделение РАН, Институт неорганической химии им А.В. Николаева Сибирского отделения РАН, Иркутский институт органической химии им. А.Е. Фаворского Сибирского отделения РАН, Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения РАН
Серия: Интеграционные проекты СО РАН; вып. 37
Примечания : Библиогр.: с. 156-171. - Авт. указ. на с.172
ISBN, Цена 978-5-7692-1272-7:
ГРНТИ : 29.19.16 + 29.19.31 + 45.09.35 + 47.09.29
ББК : В379.212.6 + З843.3
Предметные рубрики: Тонкие пленки полупроводниковые-- Получение-- Свойства физико-химические
Содержание : Синтез и характеризация летучих комплексов металлов Ru, Ir, Cu, Ni с органическими лигандами ; Новые реагенты для получения пленок карбонитрида кремния ; Термодинамическое моделирование процессов осаждения из газовой фазы. Построение CVD-диаграмм ; Осаждение металлических пленок Ru, Ir, Cu, Ni методом МО CVD ; Разработка процессов получения двух- и трехкомпонентных оксидных пленок из β-дикетонатных комплексов металлов ; От кремнийорганических соединений-предшественников к многофункциональным покрытиям из карбонитрида кремния ; CVD-синтез пленок и покрытий на основе фаз системы D-C-N ; Исследование химического состава пленок Si(B)C[[d]]x[[/d]]N[[d]]y[[/d]] методами РФЭС- и Оже-спектроскопии
Экземпляры :КФ(1)
Найти похожие
|
Главная
Каталог книг и брошюр библиотеки ИФ СО РАН