Главная
Авторизация
Фамилия
Пароль
 

Базы данных


Труды сотрудников ИФ СО РАН - результаты поиска

Вид поиска

Область поиска
Формат представления найденных документов:
полныйинформационныйкраткий
Поисковый запрос: (<.>K=Si(111) substrate<.>)
Общее количество найденных документов : 1
1.


   
    The regularities of phase formation in Fe3Si(111)/Si(111) structure at vacuum annealing / M. N. Volochaev [et al.] // J. Phys. Conf. Ser. - 2017. - Vol. 857, Is. 1. - Ст. 012053, DOI 10.1088/1742-6596/857/1/012053. - Cited References: 10 . - ISSN 1742-6588
Кл.слова (ненормированные):
Coatings -- High resolution transmission electron microscopy -- Molecular beam epitaxy -- Silicon -- Transmission electron microscopy -- Phase formations -- Polycrystalline -- Polycrystalline film -- Si(111) substrate -- Vacuum-annealing -- Annealing
Аннотация: The regularities of phase formation and thermal stability in Fe3Si(111)/Si(111) structure at stepped vacuum annealing (350, 450 and 550 °C) were investigated. The layer of 32 nm Fe3Si was deposited onto Si(111) substrate by molecular beam epitaxy at 260 °C. Transmission electron microscopy (TEM) measurements demonstrated that the film thickness increases by ∼19 % at 350 °C annealing without changing the phase composition. The polycrystalline -FeSi sublayer was formed on the interface at 450 °C annealing. Further annealing at 550 °C led to the ∼ 80 nm polycrystalline film formation containing the crystallites of -FeSi, Fe5Si3, and β-FeSi2 phases.

Смотреть статью,
Scopus,
WOS,
Читать в сети ИФ

Доп.точки доступа:
Volochaev, M. N.; Волочаев, Михаил Николаевич; Tarasov, I. A.; Тарасов, Иван Анатольевич; Loginov, Yu. Yu.; Cherkov, A. G.; Kovalev, I. V.; International Conference on Films and Coatings(13th ; St. Petersburg)(18 - 20 April 2017)
}
Найти похожие
 

Другие библиотеки

© Международная Ассоциация пользователей и разработчиков электронных библиотек и новых информационных технологий
(Ассоциация ЭБНИТ)