Библиотека института физики им. Л.В. Киренского СО РАН

Главная

Базы данных

Труды сотрудников ИФ СО РАН - результаты поиска

Вид поиска

Каталог книг и брошюр библиотеки ИФ СО РАН

Каталог журналов библиотеки ИФ СО РАН

Труды сотрудников ИФ СО РАН

Область поиска

в найденном

Найдено в других БД:

Каталог книг и брошюр библиотеки ИФ СО РАН (2)

Формат представления найденных документов:
полный	информационный	краткий

Отсортировать найденные документы по:
автору	заглавию	году издания	типу документа

Поисковый запрос: (<.>A=Moiseenko, E. T.$<.>)

Общее количество найденных документов : 29
Показаны документы с 1 по 10

1-10 11-20 21-29

   В37
   М 74

    Моисеенко, Евгений Тимофеевич.
    Структурные фазовые превращения и атомное упорядочение при твердофазных реакциях в тонкопленочных системах Cu/Au и Pd/Fe [Рукопись] : дис. на соиск. уч. степени канд. физ.-мат. наук : 01.04.07 / Е. Т. Моисеенко ; науч. рук. С. М. Жарков ; Рос. акад. наук, Сиб. отд-ние, Ин-т физики им. Л.В. Киренского. - Красноярск, 2014. - 128 с. - Библиогр.: 126 назв. -

ГРНТИ

29.19.16

29.19.15

ББК В371.26я031 + В375.1я031

Держатели документа:
Библиотека Института физики им. Л. В. Киренского СО РАН
Доп.точки доступа:
Жарков, Сергей Михайлович \науч. рук.\; Zharkov, S. M.; Moiseenko, E. T.; Российская академия наук; Сибирское отделение РАН; Институт физики им. Л.В. Киренского Сибирского отделения РАН
Экземпляры всего: 1
ДС (1)
Свободны: ДС (1)}
Найти похожие

   В37
   М 74

    Моисеенко, Евгений Тимофеевич.
    Структурные фазовые превращения и атомное упорядочение при твердофазных реакциях в тонкопленочных системах Cu/Au и Pd/Fe : автореферат дис. на соиск. уч. степени канд. физ.-мат. наук : 01.04.07 / Е. Т. Моисеенко ; науч. рук. С. М. Жарков ; офиц. опп.: Ю. Л. Михлин, Э. В. Козлов ; Рос. акад. наук, Сиб. отд-ние, Ин-т физики им. Л.В. Киренского, вед. орг. Ин-т структ. микрокинетики и проблем материаловед. РАН. - Красноярск, 2014. - 21 с. - Библиогр. -

ГРНТИ

29.19.16

29.19.15

Смотреть автореферат
Держатели документа:
Институт физики им. Л.В. Киренского СО РАН
Доп.точки доступа:
Жарков, Сергей Михайлович \науч. рук.\; Zharkov, S. M.; Михлин, Юрий Леонидович \офиц. опп.\; Козлов, Эдуард Викторович \офиц. опп.\; Moiseenko, E. T.; Российская академия наук; Сибирское отделение РАН; Институт физики им. Л.В. Киренского Сибирского отделения РАН; Институт структурной макрокинетики и проблем материаловедения РАН
Свободных экз. нет}
Найти похожие

Жарков, Сергей Михайлович.
Твердофазная реакция в тонкопленочной системе Al/Ag / С. М. Жарков, Р. Р. Алтунин, Е. Т. Моисеенко ; Научный совет по электронной микроскопии РАН [и др.] // XXVIII Российская конференция по электронной микроскопии (РКЭМ-2020) : сб. тез. докладов : в 3-х т. - 2020. - Т. 2. - P. 228-229, DOI 10.37795/RCEM.2020.82.12.017. - Библиогр.: 1 . - ISBN 978-5-6045073-2-2

Материалы конференции,
Читать в сети ИФ
Держатели документа:
Институт физики им. Л.В. Киренского СО РАН

Доп.точки доступа:
Алтунин, Роман Русланович; Altunin, R. R.; Моисеенко, Евгений Тимофеевич; Moiseenko, E. T.; Zharkov, S. M.; Научный совет по электронной микроскопии РАН; Федеральный научно-исследовательский центр "Кристаллография и фотоника" РАН; Институт проблем технологии микроэлектроники и особочистых материалов РАН; "Курчатовский институт", научно-исследовательский центр; Российская конференция по электронной микроскопии (28 ; 2020 ; 5-10 сент. ; Черноголовка, Московская обл.)Школа молодых ученых (6 ; 2020 ; 5-10 сент. ; Черноголовка, Московская обл.)
}
Найти похожие

    Peculiarities of Intermetallic Phase Formation in the Process of a Solid State Reaction in (Al/Cu)n Multilayer Thin Films / E. T. Moiseenko, S. M. Zharkov, R. R. Altunin [et al.] // JOM. - 2021. - Vol. 73, Is. 2. - P. 580-588, DOI 10.1007/s11837-020-04522-9. - Cited References: 44. - This work was supported by the Russian Science Foundation under Grant #18-13-00080. The electron microscopy investigations were conducted in the SFU Joint Scientific Center whose infrastructure was supported by the State assignment (#FSRZ-2020-0011) of the Ministry of Science and Higher Education of the Russian Federation. The preparation of cross-section samples for TEM investigations was conducted in the Krasnoyarsk Regional Center of Research Equipment of Federal Research Center “Krasnoyarsk Science Center SB RAS” . - ISSN 1047-4838
   Перевод заглавия: Особенности формирования интерметаллических фаз в процессе твердофазной реакции в многослойных тонких пленках (Al/Cu)
Кл.слова (ненормированные):
Bilayer thin films -- Copper diffusion -- In-situ transmission electron microscopies -- Intermetallic phase -- Multi-layer thin film -- Phase formation process -- Phase formation sequence -- Simultaneous thermal analysis
Аннотация: Phase formation in a solid state reaction in Al/Cu bilayer and multilayer thin films was studied by the methods of in situ transmission electron microscopy, electron diffraction, simultaneous thermal analysis and x-ray diffraction. It was established that the phase formation sequences in the (Al/Cu)n (n = 2, 15) multilayer thin films (θ-Al2Cu → γ1-Al4Cu9 → η2-AlCu) and Al/Cu bilayer thin films (θ-Al2Cu → η2-AlCu → γ1-Al4Cu9) were different. It was assumed that the phase formation process in the thin films was strongly affected by a number of copper/aluminum interfaces due to the changes of aluminum and copper diffusion current.

Смотреть статью,
Scopus,
WOS,
Читать в сети ИФ
Держатели документа:
Siberian Federal University, 79 Svobodny pr., Krasnoyarsk, 660041, Russian Federation
Kirensky Institute of Physics, Federal Research Center KSC SB RAS, Akademgorodok 50/38, Krasnoyarsk, 660036, Russian Federation
Institute of Chemistry and Chemical Technology, Federal Research Center KSC SB RAS, Akademgorodok 50/24, Krasnoyarsk, 660036, Russian Federation
Reshetnev Siberian State University of Science and Technology, Krasnoyarskij Rabochij 31, Krasnoyarsk, 660037, Russian Federation

Доп.точки доступа:
Moiseenko, E. T.; Zharkov, S. M.; Жарков, Сергей Михайлович; Altunin, R. R.; Belousov, O. V.; Solovyov, L. A.; Yumashev, V. V.; Volochaev, M. N.; Волочаев, Михаил Николаевич; Zeer, G. M.
}
Найти похожие

Correction to: Peculiarities of intermetallic phase formation in the process of a solid state reaction in (Al/Cu)n multilayer thin films (vol 73, pg 580, 2021) / E. T. Moiseenko, S. M. Zharkov, R. R. Altunin [et al.] // JOM. - 2021. - Vol. 73, Is. 6. - P. 1988, DOI 10.1007/s11837-021-04633-x. - Cited References: 1 . - ISSN 1047-4838. - ISSN 1543-1851

РУБ Materials Science, Multidisciplinary + Metallurgy & Metallurgical Engineering + Mineralogy + Mining & Mineral Processing

Смотреть статью,
Scopus,
WOS,
Читать в сети ИФ
Держатели документа:
Siberian Fed Univ, 79 Svobodny Pr, Krasnoyarsk 660041, Russia.
Fed Res Ctr KSC SB RAS, Kirensky Inst Phys, Akademgorodok 50-38, Krasnoyarsk 660036, Russia.
Fed Res Ctr KSC SB RAS, Inst Chem & Chem Technol, Akademgorodok 50-24, Krasnoyarsk 660036, Russia.
Reshetnev Siberian State Univ Sci & Technol, Krasnoyarskij Rabochij 31, Krasnoyarsk 660037, Russia.
Доп.точки доступа:
Moiseenko, E. T.; Zharkov, S. M.; Жарков, Сергей Михайлович; Altunin, R. R.; Belousov, O. V.; Solovyov, L. A.; Yumashev, V. V.; Volochaev, M. N.; Волочаев, Михаил Николаевич; Zeer, G. M.
}
Найти похожие

    Moiseenko, E. T.
    In situ electron diffraction and resistivity characterization of solid state reaction process in Cu/Al bilayer thin films / E. T. Moiseenko, R. R. Altunin, S. M. Zharkov // Metall. Mat. Trans. A. - 2020. - Vol. 51, Is. 3. - P. 1428-1436, DOI 10.1007/s11661-019-05602-5. - Cited References: 52. - The authors wish to thank the financial support from the Russian Science Foundation (Grant #18-13-00080) . - ISSN 1073-5623
   Перевод заглавия: In situ исследования процесса твердофазной реакции в двухслойных тонких пленках Cu/Al методами дифракции электронов и изменения электросопротивления
Кл.слова (ненормированные):
Aluminum alloys -- Binary alloys -- Crystallites -- Electric conductivity -- Electron diffraction -- Intermetallics -- Solid state reactions -- Thin films
Аннотация: Solid state reaction processes in Cu/Al thin films have been studied using the methods of in situ electron diffraction and electrical resistivity measurements. The solid state reaction in the Cu/Al thin films has been found to begin already at 88 °C with the formation of the Al2Cu phase in the process of thermal heating in vacuum. The phase sequence at the solid state reaction in the films under study has been determined to be the following: Al2Cu → AlCu → Al4Cu9. A model has been suggested for describing the initial formation stage of intermetallic compounds at the solid state reaction in Cu/Al thin films. According to this model, at the initial stage, the intermetallic compounds are formed as separate crystallites at the interface in the Cu/Al thin films. The suggested model can be applied both to the formation of the first phase, Al2Cu, and to the subsequent phases: AlCu and Al4Cu9. For the Al4Cu9 phase the temperature coefficient of the electrical resistivity has been determined to be equal to αAl4Cu9= 1.1 × 10−3 K−1.

Смотреть статью,
Scopus,
WOS,
Читать в сети ИФ
Держатели документа:
Siberian Federal University, 79 Svobodny pr., Krasnoyarsk, 660041, Russian Federation
Kirensky Institute of Physics, Federal Research Center KSC SB RAS, Akademgorodok 50/38, Krasnoyarsk, 660036, Russian Federation

Доп.точки доступа:
Altunin, R. R.; Zharkov, S. M.; Жарков, Сергей Михайлович
}
Найти похожие

Altunin, R. R.
Structural phase transformations during a solid-state reaction in a bilayer Al/Fe thin-film nanosystem / R. R. Altunin, E. T. Moiseenko, S. M. Zharkov // Phys. Solid State. - 2020. - Vol. 62, Is. 1. - P. 200-205, DOI 10.1134/S1063783420010059. - Cited References: 36. - This study was supported by the Russian Foundation for Basic Research, project no. 18-03-01173a . - ISSN 1063-7834
Кл.слова (ненормированные):
thin films -- Al/Fe -- solid-state reaction -- phase formation -- electron diffraction
Аннотация: The processes of phase formation during a solid-state reaction between Fe and Al nanolayers have been investigated by the in situ electron diffraction method. It is established that the solid-state reaction at the interface between iron and aluminum nanolayers begins at ≈100°C with the formation of a disordered Al solid solution in α-Fe. It is shown that intermetallic phases (FeAl6 and/or Fe2Al5, FeAl, and Fe3Al) are successively formed upon further heating.

Смотреть статью,
Scopus,
WOS,
Читать в сети ИФ

Публикация на русском языке Алтунин Р. Р. Структурные фазовые превращения при твердофазной реакции в двухслойной тонкопленочной наносистеме Al/Fe [Текст] / Р. Р. Алтунин, Е. Т. Моисеенко, С. М. Жарков // Физ. тверд. тела. - 2020. - Т. 62 Вып. 1. - С. 158-163

Держатели документа:
Siberian Federal University, Krasnoyarsk, 660041, Russian Federation
Kirensky Institute of Physics, Federal Research Center Krasnoyarsk Science Center, Siberian Branch, Russian Academy of Sciences, Krasnoyarsk, 660036, Russian Federation

Доп.точки доступа:
Moiseenko, E. T.; Zharkov, S. M.; Жарков, Сергей Михайлович
}
Найти похожие

Altunin, R. R.
Effect of the structural properties on the electrical resistivity of the Al/Ag thin films during the solid-state reaction / R. R. Altunin, E. T. Moiseenko, S. M. Zharkov // Phys. Solid State. - 2020. - Vol. 62, Is. 4. - P. 708-713, DOI 10.1134/S1063783420040034. - Cited References: 43. - This study was supported by the Russian Science Foundation, project no. 18-13-00080. . - ISSN 1063-7834. - ISSN 1090-6460

РУБ Physics, Condensed Matter
Рубрики:
LIGHT-EMITTING-DIODES
   PHASE-FORMATION
   AG
   AL
   DIFFUSION
   SUPPRESSION
   INTERFACE
   SURFACE
   GROWTH
   HEAT
Кл.слова (ненормированные):
thin films -- phase formation -- Al/Ag -- solid-state reaction; -- electron diffraction -- resistivity
Аннотация: Based on the results of in situ electron diffraction study of the solid-state reaction and electrical resistivity measurements on the Al/Ag thin films with an atomic ratio of Al : Ag = 1 : 3, the temperature of the reaction onset has been established and a model of the structural phase transitions has been proposed. The solid-state reaction begins at 70°C with the formation of the Al–Ag solid solution at the interface between the aluminum and silver nanolayers. It has been found that, in the course of the reaction, the intermetallic compounds γ-Ag2Al → μ-Ag3Al are successively formed. It is shown that the possibility of the formation of the μ‑Ag3Al phase during the solid-state reaction in the Al/Ag thin films depends on the aluminum-to-silver ratio, while the formation of the μ-Ag3Al phase begins only after all fcc aluminum has reacted.

Смотреть статью,
Scopus,
WOS,
Читать в сети ИФ

Публикация на русском языке Алтунин Р. Р. Влияние структурных свойств на электросопротивление тонких пленок Al/Ag в процессе твердофазной реакции [Текст] / Р. Р. Алтунин, Е. Т. Моисеенко, С. М. Жарков // Физ. тверд. тела. - 2020. - Т. 62 Вып. 4. - С. 621-626

Держатели документа:
Siberian Fed Univ, Krasnoyarsk 660041, Russia.
Russian Acad Sci, Kirensky Inst Phys, Siberian Branch, Krasnoyarsk Sci Ctr, Krasnoyarsk 660036, Russia.

Доп.точки доступа:
Moiseenko, E. T.; Zharkov, S. M.; Жарков, Сергей Михайлович; Russian Science FoundationRussian Science Foundation (RSF) [18-13-00080]
}
Найти похожие

    Kinetic study of a solid-state reaction in Ag/Al multilayer thin films by in situ electron diffraction and simultaneous thermal analysis / S. M. Zharkov, R. R. Altunin, V. V. Yumashev [et al.] // J. Alloys Compd. - 2021. - Vol. 871. - Ст. 159474, DOI 10.1016/j.jallcom.2021.159474. - Cited References: 47. - This work was supported by the Russian Science Foundation, Russia under grant #181300 080 . - ISSN 0925-8388. - ISSN 1873-4669
   Перевод заглавия: Исследование кинетики твердофазной реакции в мультислойных тонких пленках Ag/Al методами in situ дифракции электронов и синхронного термического анализа

РУБ Chemistry, Physical + Materials Science, Multidisciplinary + Metallurgy & Metallurgical Engineering
Рубрики:
STRUCTURAL PHASE-TRANSFORMATIONS
COMMITTEE RECOMMENDATIONS
ICTAC KINETICS
Кл.слова (ненормированные):
Thin films -- Intermetallic compound -- Solid-state reaction -- Phase transformations -- Kinetic model -- Activation energy
Аннотация: A solid-state reaction process in Ag/Al multilayer thin films has been investigated by the methods of in situ electron diffraction, simultaneous thermal analysis, transmission electron microscopy and X-ray diffraction with the aim of studying the phase formation kinetics of intermetallic compounds. The sequence of the phase transformations in the solid-state reaction has been established: Ag+Al→(Ag)+(Al)→(Ag)+δ-Ag2Al→μ-Ag3Al. The process of the solid-state interaction has been shown to consist of two steps; each of them is described by a kinetic model of the nth order reactions with autocatalysis. The kinetic parameters of the autocatalytic process of the phase formation for δ-Ag2Al and µ-Ag3Al, have been determined, in particular, their apparent activation energy: 126 kJ/mol and 106 kJ/mol, respectively.

Смотреть статью,
Scopus,
WOS,
Читать в сети ИФ
Держатели документа:
Siberian Fed Univ, 79 Svobodny Pr, Krasnoyarsk 660041, Russia.
RAS, Kirensky Inst Phys, SB, Fed Res Ctr,KSC, Akademgorodok 50-38, Krasnoyarsk 660036, Russia.
RAS, Inst Chem & Chem Technol, SB, Fed Res Ctr,KSC, Akademgorodok 50-24, Krasnoyarsk 660036, Russia.
Reshetnev Siberian State Univ Sci & Technol, Krasnoyarskij Rabochij 31, Krasnoyarsk 660037, Russia.

Доп.точки доступа:
Zharkov, S. M.; Жарков, Сергей Михайлович; Altunin, R. R.; Yumashev, V. V.; Moiseenko, E. T.; Belousov, O. V.; Solovyov, L. A.; Volochaev, M. N.; Волочаев, Михаил Николаевич; Zeer, G. M.; Russian Science Foundation, RussiaRussian Science Foundation (RSF) [181300 080]
}
Найти похожие

10.

    Solid-state reaction in Cu/a-Si nanolayers: A comparative study of STA and electron diffraction data / E. T. Moiseenko, V. V. Yumashev, R. R. Altunin [и др.] // Materials. - 2022. - Vol. 15, Is. 23. - Ст. 8457, DOI 10.3390/ma15238457. - Cited References: 45. - This work was supported by the Russian Science Foundation under grant # 22-13-00313 . - ISSN 1996-1944
   Перевод заглавия: Твердофазная реакция в нанослоях Cu/a-Si: сравнительное исследование данных, полученных методами СТА и дифракции электронов
Кл.слова (ненормированные):
copper silicide -- thin films -- nanolayer -- solid-state reaction -- phase formation -- kinetics -- activation energy -- enthalpy -- DSC -- electron diffraction
Аннотация: The kinetics of the solid-state reaction between nanolayers of polycrystalline copper and amorphous silicon (a-Si) has been studied in a Cu/a-Si thin-film system by the methods of electron diffraction and simultaneous thermal analysis (STA), including the methods of differential scanning calorimetry (DSC) and thermogravimetry (TG). It has been established that, in the solid-state reaction, two phases are formed in a sequence: Cu + Si → η″-Cu3Si → γ-Cu5Si. It has been shown that the estimated values of the kinetic parameters of the formation processes for the phases η″-Cu3Si and γ-Cu5Si, obtained using electron diffraction, are in good agreement with those obtained by DSC. The formation enthalpy of the phases η″-Cu3Si and γ-Cu5Si has been estimated to be: ΔHη″-Cu3Si = −12.4 ± 0.2 kJ/mol; ΔHγ-Cu5Si = −8.4 ± 0.4 kJ/mol. As a result of the model description of the thermo-analytical data, it has been found that the process of solid-state transformations in the Cu/a-Si thin-film system under study is best described by a four-stage kinetic model R3 → R3 → (Cn-X) → (Cn-X). The kinetic parameters of formation of the η″-Cu3Si phase are the following: Ea = 199.9 kJ/mol, log(A, s−1) = 20.5, n = 1.7; and for the γ-Cu5Si phase: Ea = 149.7 kJ/mol, log(A, s−1) = 10.4, n = 1.3, with the kinetic parameters of formation of the γ-Cu5Si phase being determined for the first time.

Смотреть статью,
Scopus,
WOS,
Читать в сети ИФ
Держатели документа:
Laboratory of Electron Microscopy, Siberian Federal University, 79 Svobodny Ave., 660041 Krasnoyarsk, Russia
Institute of Chemistry and Chemical Technology, Federal Research Center KSC SB RAS, Akademgorodok 50/24, 660036 Krasnoyarsk, Russia
Kirensky Institute of Physics, Federal Research Center KSC SB RAS, Akademgorodok 50/38, 660036 Krasnoyarsk, Russia

Доп.точки доступа:
Moiseenko, E. T.; Yumashev, V. V.; Altunin, R. R.; Zeer, G. M.; Nikolaeva, N. S.; Belousov, O. V.; Zharkov, S. M.; Жарков, Сергей Михайлович
}
Найти похожие